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bbin纳米发布2大重磅新品:第一代iTronix?系列CVD薄膜沉积设备


629日,全球最大规模、最具影响力的半导体盛会——SEMICON China 2023在上海精彩揭幕。活动现场,bbin真人(股票代码688147,简称bbin纳米)携2大重磅新品亮相,正式发布了公司自主研发的第一代iTronix?系列CVD薄膜沉积设备。这标志着bbin纳米在半导体薄膜沉积领域取得又一新突破,也是公司多元化布局激活增长新动能的关键一步。



iTronix? PE系列等离子体增强化学气相沉积镀膜系统,可沉积相应不同种类薄膜,可应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件以及化合物半导体等领域的芯片制造。同时,该新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。


iTronix? LP系列低压化学气相沉积镀膜系统,采用特别设计的反应腔室和电气软件集成化服务,在逻辑芯片、DRAM芯片、NAND芯片等领域具有广泛应用,可满足SiGep-Sidoped a-SiSiO2SiN等薄膜沉积工艺的开发与应用需求。


作为国内原子层沉积(ALD)技术的龙头企业,bbin纳米深耕高端薄膜沉积设备领域多年,ALD产品营收规模方面位居国内同类企业第一,多款半导体ALD设备覆盖逻辑、存储、化合物半导体、新型显示等细分应用领域,关键工艺指标已达到国际先进水平。

创新驱动,引领未来。bbin纳米此次推出的iTronix? 系列CVD薄膜沉积设备,是公司创新之路的又一里程碑,大大丰富了产品矩阵,奠定了公司以ALD技术为核心,CVD等多种真空薄膜技术梯度发展的战略定位。目前,bbin纳米iTronix? 系列CVD薄膜沉积设备已获得客户订单,设备验证进展顺利。未来,bbin纳米将为客户提供更多选择、更卓越的定制化解决方案,在薄膜沉积设备领域持续发力。


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